Photostrukturierbarer Schwarzlack gegen Streulicht
Akronym: | PuSch | |
Projektlaufzeit: | 01.08.2024 - 31.01.2027 | |
Beschreibung: | Kritische Bereiche von Photodiodenarrays werden durch strukturierten Schwarzlack präzise abgedeckt. Dadurch wird beim Einsatz im Messgerät Streulicht unterdrückt und der nützliche Anteil des Detektorsignals erhöht. Die Schwarzlackschichten müssen mit der Herstelltechnologie und den Betriebsbedingungen kompatibel sein. Durch derartig verbesserte Photodiodenarrays würde der Aufwand zur Fehllichtvermeidung im System reduziert, wodurch Kosten und Ressourcenaufwand zu dessen Herstellung sinken. | |
Gefördert durch: | Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz | |
Projektträger: | Euronorm | |
Förderkennzeichen: | 49MF230089 |
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