Für Präzisionskraftmessungen in medizintechnischen Applikationen hat das CiS Forschungsinstitut aus Erfurt Silizium-Dehnmessstreifen (Si-DMS) mit integrierter Messbrücke entwickelt. Durch die Verwendung von Halbleitertechnologien wird eine höhere Langzeitstabilität, Präzision und Messsicherheit im Vergleich zu duktilen Metall-DMS erreicht
Die hochpräzise Prozessmesstechnik steht mit Einsatztemperaturen von bis zu 300°C vor neuen Herausforderungen. Anlagen- und Messtechnikproduzenten wollen mit MEMS-basierten Druckwandlerkernen Funktionserweiterungen und neue Gestaltungsräume erschließen.
Die passenenden Mikrosystemtechnologien dazu hat jetzt das CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik aus Erfurt entwickelt
Das Projekt HotDru befasst sich mit der Entwicklung serienfertigungstauglicher Hochtemperaturdrucksensorsysteme mit einer Einsatztemperatur von bis zu 300°C. Die neu entwickelten Drucksensorchips werden in verschiedenen Versionen realisiert, die als Grundaufbau alle auf dem „Silicon on Insulator“ (SOI)-Prinzip beruhen
Zur Erfassung des Akkommodationsbedarfs muss der sogenannte Pupillen-Nahreflex gemessen werden. Dazu entwickelt das CiS Forschungsinstitut gegenwärtig ein optisches Sensorsystem, das den Pupillendurchmesser und gleichzeitig die Gesamthelligkeit misst. Aus diesen Signalen werden Eingangsregelgrößen für das aktuatorisch arbeitende Linsensystem abgeleitet
Technologien aus der Mikrosystemtechnik und der Mikrooptik bilden die Grundlagen für die erfolgreiche Miniaturisierung eines neuen, interferometrischen Abstandsmesssystems der TETRA GmbH aus Ilmenau. Das Kernstück, bestehend aus einem Michelsen-Laserinterferometer und einem optischen Siliziumdetektor, entwickelte der Mechatronikspezialist gemeinsam mit dem Applikationszentrum Mikrooptische Systeme am CiS Forschungsinstitut
Die 3D-Strukturierung von Silizium gewinnt für optische und opto-elektronische Anwendungen der Mikrosystemtechnik immer mehr an Bedeutung. Für die zuverlässige und verlustarme Ankopplung von Lichtleitfasern an Fotodioden entwickelte das CiS Forschungsinstitut neue Mikrostrukturierungstechnologien zur Herstellung von Kavitäten mit Flankenwinkeln von 45° und 90° und hoher optischer Absorption der sensitiven Einkoppelfläche
Auf Basis spezieller Chip- und Montagetechnologien aus dem CiS Forschungsinstitut hat die ILK Institut für Luft- und Kältetechnik gGmbH, Dresden ein kostengünstiges Multiparameter-System zur kontinuierlichen Überwachung von Feuchte, Blasenbildung, Temperatur und Füllstand in Kältemittelanlagen entwickelt.
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